作者：楊純明

摘要：

本項研究分析位於臺中縣霧峰鄉行政院農委會農業試驗所農場試區之1998年一、二期稻作，經土壤缺水處理水稻 (Oryza sativa L. cv. TNG 67) 植被之垂直剖面二維熱紅外線輻射溫度影像資料，以探討土壤水分潛勢下降對植被垂直剖面不同高度輻射溫度之作用，並比較對植被溫度與氣溫或地表輻射溫度差異之改變。根據熱像資料分析結果，發現水稻植被輻射溫度受到外界環境影響，且土壤缺水將造成植被輻溫度的上升。將植被垂直剖面自地面起至最上臨界空氣表層均分成十等份（層），各層溫度皆顯示土壤缺水引起溫度上升的現象，兩期稻作皆然，且愈近地面缺水引起增溫效果愈大。又在本試驗環境的正常土壤水分狀態下，植被溫度通常低於氣溫及地溫，當土壤水分潛 (Ψsoil) 下降至約-0.25 MPa 時，近地面植被層輻射溫度將大於氣溫，當Ψsoil下降至約-0.75 MPa時，最上表層植被輻射溫度將大於氣溫。近地面植被層輻射溫度約在Ψsoil低於-0.20 MPa 時高於地溫，最上表層植被溫度則在Ψsoil低於-1.50 MPa時高於地溫。在Ψsoil高於-0.04 MPa時，植被剖面各不等垂直高度的輻射溫度相近，當缺水使Ψsoil低於-0.04 MPa時，植被垂直剖面即呈現愈近地面輻射溫度愈高之趨勢，一、二期稻作結果雷同。

關鍵字：遙測、水稻植被垂直剖面、輻射溫度、土壤缺水、紅外線熱像技術

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