作者：蕭翌柱*、陸明德、林宗俊

摘要：

次氯酸 (HOCl) 具有強氧化力且能破壞微生物細胞膜通透性達到消毒滅菌的成效，本試驗之主要目的，在於檢測不同光照強度或高溫高壓滅菌後對HOCl 濃度降解的影響；此外，探討含不同濃度HOCl 溶液外部消毒處理，對於降低細本山葡萄 (Vitis thunbergii Sieb. & Zucc.) 莖節培植體汙染率的影響。結果顯示，將含HOCl 濃度為198.3 ± 3.4 mg L^-1 的溶液盛裝於深褐色血清瓶，並放置在室內、常溫且避免陽光直射的環境，可維持其穩定性達5 d 以上；另經高溫高壓滅菌後的HOCl 含量變化不大。使用0.6% (w/v) 次氯酸鈉 (NaOCl) 溶液進行細本山葡萄莖節外部消毒20 min 之培植體汙染率為82.2 ± 1.6% (對照組)，顯著高於使用150 與200 mg L^-1 HOCl溶液消毒的處理組 (61.1 ± 5.7% & 57.8 ± 4.2%)，且經21 d培養後也未見HOCl影響莖節正常生長。因此，培植體在外部消毒處理時，以HOCl 取代NaOCl 的構想具可行性。

關鍵字：高壓滅菌、光照度、微生物汙染、組織培養

下載： PDF 連結